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EUV 光刻机之争：ASML 的垄断与华为的突破

EUV（极紫外）光刻机是制造 3 纳米及以下工艺芯片的核心设备，堪称半导体产业的皇冠明珠。目前，荷兰 ASML 公司垄断了全球 EUV 光刻机市场，而中国华为联合国内团队研发的 Hyperion-1 EUV 光刻机，正在试图打破这一垄断格局。

国产进展：科益虹源（中科院背景）实现248nm KrF光源量产，福晶科技（LBO晶体）参与激光驱动技术。

全球范围内，谁控制了光刻机，谁就掌握了芯片制造的咽喉。ASML控制着全球100%的EUV光刻设备出货量，它背后的供应链则被美国死死捏住了命门。

WCCFtech：China ' s In - House EUV Machines Reportedly Entering Trial Production In Q3 2025, Utilizing An Approach That Offers A Si

在全球半导体产业的核心战场上，极紫外（EUV）光刻机技术长期被荷兰ASML垄断，成为制约中国芯片自主化的“卡脖子”难题。然而，2025年春夏之交，中国半导体领域频传捷报：中科院上海光机所研发的固体激光驱动EUV光源能量转换效率突破3.42%，上海微电子的EUV

在 EUV 光刻机采用的通过高能脉冲激光打击锡液滴靶产生等离子体进而获得极紫外光源的过程里，锡液滴的流动行为受到多种物理因素交互影响。比如，一方面有外界施加的促使液滴喷射的压力、激光打击产生的瞬间冲击力等外力作用；另一方面，液滴自身存在的粘性、表面张力等内力因